| 专利名称 | 一种铟表面处理的方法 | 申请号 | CN201410021010.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103762274A | 公开（授权）日 | 2014.04.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 黄玥;林春;叶振华;廖清君;丁瑞军 | 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种铟表面处理的方法 至一种铟表面处理的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开一种去除铟表面氧化层的方法。该技术方案具体包括：清洗等离子体腔体和等离子体处理两步。该方法的优点在于不仅能够去除表面氧化层而且能够有效地防止铟的新鲜表面被再次氧化。 |
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