| 专利名称 | 一种纳米薄膜的测量方法及装置 | 申请号 | CN201310743478.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103743349A | 公开（授权）日 | 2014.04.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 张增明;宫俊波;代如成;王中平;丁泽军 | 主分类号 | G01B11/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/06(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种纳米薄膜的测量方法及装置 至一种纳米薄膜的测量方法及装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种纳米薄膜的测量方法及装置，其中，纳米薄膜的测量方法包括获得纳米薄膜的透射率测量值或反射率测量值。获得所述纳米薄膜的椭偏参数。预估计所述纳米薄膜的厚度，根据所述椭偏参数以及所述预估计厚度得到所述纳米薄膜的赝光学常数。根据所述预估计厚度以及所述赝光学常数得到所述纳米薄膜的透射率计算值或反射率计算值。将透射率测量值或反射率测量值分别与透射率计算值或反射率计算值进行误差比较，将误差值最小时对应的预估计厚度以及赝光学常数作为所述纳米薄膜的厚度以及光学常数。采用透射率或反射率辅助椭偏法进行分析，引入赝光学常数，采用拟合算法和迭代算法对数据进行处理，精确测量薄膜样品光学常数及厚度。 |
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