| 专利名称 | 光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法 | 申请号 | CN201410002627.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103744269A | 公开（授权）日 | 2014.04.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 李思坤;王向朝;杨济硕;闫冠勇;李兆泽 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法 至光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法，通过对特殊设计的二维检测标记在最佳焦面位置的仿真空间像进行主成分分析和多元线性回归，提取出包含像差影响的空间像的主成分和线性回归矩阵，利用主成分拟合实测空间像，以拟合残差的均方根最小为判断依据实现对光刻成像最佳焦面的快速、低成本检测，以回归矩阵拟合主成分系数，实现对波像差的快速、高精度原位检测。本发明仅需采集检测标记在不同焦深位置的空间像实现最佳焦面的检测，利用最佳焦面位置的空间像实现波像差高精度检测。 |
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