| 专利名称 | 一种大口径光学元件表面损伤分布图的生成方法 | 申请号 | CN201410016315.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103743750A | 公开（授权）日 | 2014.04.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院自动化研究所 | 发明（设计）人 | 陶显;张正涛;张峰;史亚莉;尹英杰;白明然 | 主分类号 | G01N21/88(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/88(2006.01)I | 专利有效期 | 一种大口径光学元件表面损伤分布图的生成方法 至一种大口径光学元件表面损伤分布图的生成方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种大口径光学元件表面损伤分布图的生成方法，该方法包括如下步骤：对现有的多张大口径光学元件表面损伤子图像进行损伤轮廓提取，获取所有的损伤轮廓序列；计算得到的损伤轮廓的特征；基于损伤轮廓的特征对损伤轮廓进行分类标记；根据指定要求和分类标记信息，对损伤轮廓进行筛选、处理和显示，生成大口径光学元件表面损伤分布图。本发明可以很大程度上减少人工操作，实现元件表面质量全流程跟踪和闭环控制。 |
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