| 专利名称 | 三维晶体光学回音壁微腔的制备方法 | 申请号 | CN201410002624.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103738915A | 公开（授权）日 | 2014.04.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 唐家雷;林锦添;程亚;何飞;乔玲玲 | 主分类号 | B81C99/00(2010.01)I | IPC主分类号 | B81C99/00(2010.01)I;B23K26/36(2014.01)I;B23K26/00(2014.01)I | 专利有效期 | 三维晶体光学回音壁微腔的制备方法 至三维晶体光学回音壁微腔的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种三维晶体光学回音壁微腔的制备方法，包括对浸没在液体中的晶体进行飞秒激光选择性烧蚀和利用聚焦离子束研磨微腔侧壁。本发明方法制备的三维晶体光学回音壁微腔能将光通过腔体与外界面的连续全内反射限制在腔内，具有极高的表面光洁度，小的模式体积与高的品质因子。该方法适用于各种晶体材料和玻璃等。 |
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