| 专利名称 | 在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法 | 申请号 | CN201310693376.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103698836A | 公开（授权）日 | 2014.04.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 姜珊;巴音贺希格;宋莹;李文昊;潘明忠 | 主分类号 | G02B5/32(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/32(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G03H1/12(2006.01)I | 专利有效期 | 在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法 至在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法，涉及光谱技术领域，要解决的技术问题是提供一种高精度调整干涉条纹方向的方法，解决技术问题的技术方案为：将基准光栅置于二维运动工作台上；配备一套扫描曝光光路；调节反射镜使曝光光束均满足Littrow条件；沿扫描方向移动工作台，根据CCD上观察到的干涉图样变化情况调节基准光栅方向；调节平面反射镜，使两光束在位置PSD和角度PSD上重合。采用本发明所述的方法能精确调节干涉条纹方向，为扫描干涉场曝光系统在扫描过程中的对比度提供了保证，对扫描曝光全息光栅的制作具有较大的实际意义。 |
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