| 专利名称 | 米量级光学元件的超高精度加工方法 | 申请号 | CN201310554717.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103692294A | 公开（授权）日 | 2014.04.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 魏朝阳;顾昊金;程鑫;易葵;邵建达 | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 米量级光学元件的超高精度加工方法 至米量级光学元件的超高精度加工方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种米量级光学元件的超高精度加工方法，该方法利用环形抛光技术和磁流变抛光技术相结合，通过对不同加工工艺参数的优化组合，实现了对米量级光学元件的超高精度加工，该方法加工出面形精度的PV值达到1/8波长，RMS值达到1/50波长的米量级光学元件。 |
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