| 专利名称 | 基于旋转达曼光栅的多路并行激光直写装置和方法 | 申请号 | CN201310613255.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103676499A | 公开（授权）日 | 2014.03.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 周常河;黄巍;麻健勇;朱锋;刘昆;李树斌;王津 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 基于旋转达曼光栅的多路并行激光直写装置和方法 至基于旋转达曼光栅的多路并行激光直写装置和方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于旋转达曼光栅的多路并行激光直写装置和方法。该装置包括激光刻写光路、自聚焦模块和电子控制模块；该装置充分利用达曼光栅分束的特点，实现了并行直写光栅；通过旋转一维达曼光栅，来实现变周期刻写光栅；通过旋转二维达曼光栅，能上千倍地提高刻写速度，从而实现更高效更快速的刻写。本装置适用于刻写大面积高密度的光栅。 |
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