| 专利名称 | 光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法 | 申请号 | CN201310576235.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103676498A | 公开（授权）日 | 2014.03.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 司徒国海;蔡燕民;黄惠杰;王向朝 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法 至光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件的设计方法，光瞳整形单元包括级联衍射光学元件和变焦距准直透镜组。级联衍射光学元件包括第一衍射光学元件和第二衍射光学元件，这两片衍射光学元件的通光表面均垂直于照明系统光轴，这两片衍射光学元件均为纯位相元件。所述的级联衍射光学元件的设计方法，包括以下步骤：相位单元周期的计算；入射光束和确定所需光束的光强分布并进行离散化处理；对第二衍射光学元件和第一衍射光学元件的初始位相矩阵进行赋值；采用迭代算法，并进行量化处理，得到第二衍射光学元件和第一衍射光学元件的量化位相矩阵；评估设计结果。 |
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