一种AlGaN基双色日盲紫外探测器及制作方法

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专利名称 一种AlGaN基双色日盲紫外探测器及制作方法 申请号 CN201310729555.5 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103646986A 公开(授权)日 2014.03.19 申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 杨敏;种明;赵德刚;王晓勇;苏艳梅;孙捷;孙秀艳 主分类号 H01L31/105(2006.01)I IPC主分类号 H01L31/105(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 专利有效期 一种AlGaN基双色日盲紫外探测器及制作方法 至一种AlGaN基双色日盲紫外探测器及制作方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种AlGaN基双色日盲紫外探测器及制作方法。该探测器包括:衬底;缓冲层;n-i-p-i-n单元,其包括缓冲层上依次生长的下n型掺杂层、下i型有源层、p型掺杂层、上i型有源层和上n型掺杂层;上台面,其是通过刻蚀上n型掺杂层、上i型有源层、p型掺杂层两侧形成的台面;下台面,其是通过刻蚀上台面下方两侧的p型掺杂层形成;n型欧姆接触金属层,其生长在上n型掺杂层表面,以及下台面一侧的下n型掺杂层上表面;p型欧姆接触金属层,其生长在上台面一侧的p型掺杂层上表面;加厚金属层,其生长在n型欧姆接触金属层和p型欧姆接触金属层上表面,其尺寸大于其下方的欧姆接触金属层的尺寸;二氧化硅层。

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