| 专利名称 | 一种大面积光栅刻划刀架系统 | 申请号 | CN201310606301.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103645531A | 公开（授权）日 | 2014.03.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 李晓天;于海利;唐玉国;杨超;齐向东 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种大面积光栅刻划刀架系统 至一种大面积光栅刻划刀架系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种大面积光栅刻划刀架系统，涉及光栅刻划技术领域，解决现有的滑块与刀架安装板之间的连接方式为合页结构，由于合页结构转动轴与轴套之间存在轴隙误差，难以保证刻刀运行的长期稳定性的问题，包括玻璃导轨；沿玻璃导轨滑动的滑块，滑块呈四面封闭的中空状并套装于玻璃导轨上，滑块上穿装有导向滑脚和弹性滑脚，导向滑脚和弹性滑脚均与玻璃导轨外表面接触；分别与外界驱动机构和滑块连接的连接杆，驱动机构推拉连接杆以驱动滑块沿玻璃导轨滑动；刻划刀架；用于安装刻划刀架的刀架安装板，刀架安装板的上端与滑块固定连接，刀架安装板的下端安装有导向滑脚。本发明有助于减小光栅刻划时的刻线位置误差和提高大面积光栅刻划精度。 |
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