| 专利名称 | 一种刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器 | 申请号 | CN201310616114.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103645540A | 公开（授权）日 | 2014.03.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明（设计）人 | 王玥;张家顺;安俊明;吴远大;王红杰;李建光;胡雄伟 | 主分类号 | G02B6/124(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B6/124(2006.01)I;G02B6/122(2006.01)I | 专利有效期 | 一种刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器 至一种刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器，包括输入波导、输出波导、自由传输平板波导区和刻蚀衍射光栅，输入波导和输出波导位于自由传输平板波导区的同一侧，并均与自由传输平板波导区相连，自由传输平板波导区的另一侧与刻蚀衍射光栅相连，刻蚀衍射光栅的光栅面采用二维光子晶体反射镜结构。采用二维光子晶体反射镜结构替代常规刻蚀衍射光栅的光栅面，可以有效降低器件制作工艺难度，有效降低光栅介质与空气界面之间存在着的较大的菲涅尔反射损耗，从而降低器件的插入损耗；并可实现单一偏振模式的全反射，而另一偏振模式则全部透射，实现器件的偏振保持。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障