| 专利名称 | 分子散射测风激光雷达中激光频谱反演方法及测量校准方法 | 申请号 | CN201310655715.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103630908A | 公开（授权）日 | 2014.03.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 韩燕;窦贤康;孙东松;夏海云;舒志峰;薛向辉;陈廷娣 | 主分类号 | G01S17/95(2006.01)I | IPC主分类号 | G01S17/95(2006.01)I;G01S7/497(2006.01)I | 专利有效期 | 分子散射测风激光雷达中激光频谱反演方法及测量校准方法 至分子散射测风激光雷达中激光频谱反演方法及测量校准方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种分子散射测风激光雷达中激光频谱反演方法及测量校准方法，解决了现有的测风Rayleigh激光雷达激光频谱校准困难问题；该反演方法主要通过分子散射光经标准具透过率函数Ni(v)与标准具透过率函数Fei(v)做反卷积运算，运算结果再与Rayleigh-Brillouin谱FR-B(v)做反卷积运算，得到激光频谱Fl(v)，用高斯函数拟合，得到激光频谱函数。该测量校准方法及系统设置标准具控制器改变标准具腔长，入射至标准具的激光束扫描标准具腔长得到标准具及分子散射光透过率曲线。本发明提高了风场反演的准确性、可靠性及精度。 |
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