高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器

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专利名称 高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器 申请号 CN201310652143.6 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103633559A 公开(授权)日 2014.03.12 申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 王涛;刘俊岐;刘峰奇;张锦川;王利军;王占国 主分类号 H01S5/183(2006.01)I IPC主分类号 H01S5/183(2006.01)I;H01S5/06(2006.01)I 专利有效期 高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器 至高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种高功率低发散角的半导体太赫兹垂直面发射激光器,包括:一高掺杂的接收衬底;一下金属波导光限制层,该下金属波导光限制层是由金属热键合形成,并位于接收衬底上;一下接触层,位于下金属波导光限制层上;一有源层,该有源层生长在下接触层上;一上接触层,该上接触层生长在该有源层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;一上金属层,该上金属层由电子束蒸发于上接触层上,并被制作成准周期等比数列同心圆光栅结构;其中,下金属层和下接触层构成下等离子体波导,上金属层和上接触层构成上等离子体波导,上下等离子体波导构成双面金属波导结构;所述下接触层、有源层、上接触层和上金属层被制作成环形结构,环形的有源层形成了环形谐振腔。

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