| 专利名称 | 一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法 | 申请号 | CN201310655957.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103631089A | 公开（授权）日 | 2014.03.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 邓启凌;张满;史立芳;胡松;曹阿秀;秦燕云;李志炜 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法 至一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法，包括如下步骤：1）对表面含有浮雕纳米结构的纳米压印模板进行表面防粘处理；2）对一块刚性基片进行偶联处理；3）在步骤2）中经过偶联处理的刚性基片上涂覆一层巯基-烯材料；4）将步骤1）中经过防粘处理的纳米压印模板和步骤3）中的表面涂覆巯基-烯材料的刚性基片放置在纳米压印机中进行对准压印；5）利用紫外光将巯基-烯材料固化成型；6）纳米压印模板脱模后，对巯基-烯材料结构层进行表面防粘处理，制备获得纳米压印聚合物模板。本发明的显著特点是制备过程无需刻蚀和高真空条件，大大简化了制备工艺，降低了制作成本，促进了纳米压印聚合物模板在纳米结构制备领域的广泛应用。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障