一种半导体/荧光粉异质结构及其制备方法

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专利名称 一种半导体/荧光粉异质结构及其制备方法 申请号 CN201310682779.5 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103627399A 公开(授权)日 2014.03.12 申请(专利权)人 中国科学院长春应用化学研究所 发明(设计)人 孟健;武晓杰 主分类号 C09K11/88(2006.01)I IPC主分类号 C09K11/88(2006.01)I;C09K11/78(2006.01)I;C09K11/84(2006.01)I 专利有效期 一种半导体/荧光粉异质结构及其制备方法 至一种半导体/荧光粉异质结构及其制备方法 法律状态 授权 说明书摘要 本发明提供了一种半导体/荧光粉异质结构及其制备方法,包括以下步骤:在保护气体氛围下,将荧光粉和半导体混合后研磨,得到混合物,在保护气体或真空氛围下,将上述步骤得到的混合物在脉冲电流和压力的作用下,进行烧结得到半导体/荧光粉异质结构;所述荧光粉的摩尔数占荧光粉和半导体总摩尔数的百分比为10%~40%。本发明采用放电等离子体热压烧结方法制备半导体/荧光粉异质结构,本发明制备的半导体/荧光粉异质结构,利用半导体的能带特征,实现了稀土离子宽带激发的光转换。

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