| 专利名称 | 提高光学元件小光斑扫描激光预处理效率的方法 | 申请号 | CN201310566601.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103624402A | 公开（授权）日 | 2014.03.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 刘晓凤;赵元安;高妍琦;李大伟;胡国行;易葵 | 主分类号 | B23K26/00(2014.01)I | IPC主分类号 | B23K26/00(2014.01)I;B23K26/08(2014.01)I | 专利有效期 | 提高光学元件小光斑扫描激光预处理效率的方法 至提高光学元件小光斑扫描激光预处理效率的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种提高光学元件小光斑扫描激光预处理效率的方法，该方法根据要求的预处理样品面积Amm×Bmm、相邻辐照光斑间的中心间距L及补偿距离L0，计算出样品每行运动的起点和终点的位置坐标；计算机控制样品按照上述位置坐标逐行匀速运动并实时获取样品运动轨迹的位置信息的同时，控制激光器在样品的匀速运动过程中以固定频率μ输出脉冲激光辐照样品对光学元件表面进行激光预处理。本发明简单易行，可确保相邻辐照光斑在样品表面正方形或等边三角形的排布轨迹，有效地提高了光学元件小光斑扫描激光预处理的工作效率。 |
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