| 专利名称 | 具有多次反射真空紫外光电离源的质谱分析仪 | 申请号 | CN201320596179.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN203466164U | 公开（授权）日 | 2014.03.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 潘洋;王健;邱克强;朱治祥;刘成园 | 主分类号 | H01J49/16(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J49/16(2006.01)I | 专利有效期 | 具有多次反射真空紫外光电离源的质谱分析仪 至具有多次反射真空紫外光电离源的质谱分析仪 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及具有多次反射真空紫外光电离源的质谱分析仪。包括光电离腔体、差分腔体和质谱腔体；光电离腔体内设有由真空紫外光源、推斥电极和聚焦电极组成的真空紫外光电离源；差分腔体内设有离子光学系统，质谱腔体内设有质量分析器；推斥电极和聚焦电极相对应的侧面为圆锥面或圆弧面，推斥电极的圆锥面或圆弧面上和聚焦电极的圆锥面或圆弧面上分别镀有反射层，反射层材料为金或铝或铱。使来自于真空紫外光源的出射光可在推斥电极和聚焦电极之间多次反射，增加了待测物的电离几率，从而使电离效率提高2～6倍以上，大大提高了检测样品的灵敏度，在一些微量气体成分和挥发物的实时、在线监测中有着广泛的应用前景。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
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