| 专利名称 | 光栅尺真空复制曝光设备 | 申请号 | CN201310606188.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103616803A | 公开（授权）日 | 2014.03.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 李小虎;黄剑波;李英志;孙强;王鹤;王尧;陈璐 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 光栅尺真空复制曝光设备 至光栅尺真空复制曝光设备 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 光栅尺真空复制曝光设备属于光栅尺制造工艺领域，目的在于解决光栅尺曝光过程中存在的压紧力不均匀以及光栅尺变形的问题。本发明的光栅尺真空复制曝光设备包括工作台、曝光光源、移动滑台、定位组件、侧面压紧组件、翻转组件和密封组件；母尺放置于工作台上，工作尺位于母尺上，通过定位组件和侧面压紧组件实现工作尺和母尺在工作台上的定位；母尺四周侧面的下边沿处涂密封胶；翻转组件与密封组件相连，通过翻转组件将密封组件压紧在工作台上形成一密封腔，对密封腔抽真空，通过大气压的作用实现母尺和工作尺的压紧；曝光光源固定在移动滑台的滑块上，在沿母尺长度方向做扫描运动的过程中，实现光栅尺的曝光复制。 |
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