| 专利名称 | 一种投影物镜焦面形状测量标记装置及应用 | 申请号 | CN201310648361.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103616166A | 公开（授权）日 | 2014.03.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 李金龙;胡松;赵立新;李兰兰;邸成良 | 主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I;G03F7/207(2006.01)I | 专利有效期 | 一种投影物镜焦面形状测量标记装置及应用 至一种投影物镜焦面形状测量标记装置及应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种投影物镜焦面形状测量标记装置及应用，含有镀铬区域、透光区域、相位凹槽区域，其中：镀铬区域、透光区域、相位凹槽区域的宽度比为2:1:1；相位凹槽区域具有90°的位相深度。使用时，制作一带有可提高投影物镜焦面形状测量分辨力测量标记的测试掩模，该测量标记均布在整个曝光视场范围内；掩模曝光后，通过测量硅片表面干涉条纹偏移量，并结合公式离焦量与干涉条纹偏移量间对应关系即可获得其投影物镜的真实焦面形状；在光刻机的焦面控制过程中，硅片曝光场进行平面拟合之前将硅片表面高度数据对应的减去投影物镜焦面数据，再将所得结果进行平面拟合进而完成光刻机超高精度的焦面控制。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障