| 专利名称 | 一种图案化金属电极及其制备方法 | 申请号 | CN201310565869.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103606634A | 公开（授权）日 | 2014.02.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院化学研究所 | 发明（设计）人 | 刘云圻;王翰林;张磊;胡文平;于贵 | 主分类号 | H01L51/56(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L51/56(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I | 专利有效期 | 一种图案化金属电极及其制备方法 至一种图案化金属电极及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种图案化金属电极及其制备方法。该制备方法包括如下步骤：（1）在衬底上旋涂聚甲基丙烯酸甲酯得到聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀层；（2）通过喷墨打印腐蚀性溶剂，按照版图设计，在所述聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀层的表面腐蚀出图案化的结构，即得到图案化的抗蚀层；（3）在所述图案化的抗蚀层的表面沉积金属得到导电层；然后将所述衬底与所述图案化的抗蚀层进行剥离，即得到图案化的金属电极。本发明所涉及的图案化金属电极对于衬底没有特殊要求，能够在绝大多数平面衬底上加工；本发明所涉及的方法具有价格低廉，金属分辨率和光刻工艺分辨率持平，沟道分辨率优于光刻工艺分辨率的优点。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障