| 专利名称 | 利用AFM的探针制备图形衬底的定位纳米压印系统 | 申请号 | CN201310594552.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103592818A | 公开（授权）日 | 2014.02.19 | 申请（专利权）人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明（设计）人 | 査国伟;牛智川;倪海桥;尚向军;贺振宏 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 利用AFM的探针制备图形衬底的定位纳米压印系统 至利用AFM的探针制备图形衬底的定位纳米压印系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种利用AFM的探针制备图形衬底的定位纳米压印系统，该系统包括：一与其他真空生长设备相兼容的超高真空室；一原子力显微镜，其固定在超高真空室的底部；一衬底托固定装置，其固定在原子力显微镜的上面，该衬底托固定装置的中间有一孔洞；一衬底托，其位于衬底托固定装置中间的孔洞上面；一机械臂，其固定在超高真空室的上面，用于衬底托的传递；一探针置换腔，其固定在超高真空室的侧壁上，用于原子力显微镜探针的更换；一监控系统，用于原子力显微镜制备压印图形的控制。本发明具有图形精度高(高于50nm)、外延损伤小和利于制备高集成度阵列光电子器件等特点。 |
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