菲涅尔透镜表面的减反增透涂层及其制备方法

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专利名称 菲涅尔透镜表面的减反增透涂层及其制备方法 申请号 CN201210291392.2 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103592701A 公开(授权)日 2014.02.19 申请(专利权)人 中国科学院理化技术研究所 发明(设计)人 贺军辉;周刚 主分类号 G02B1/11(2006.01)I IPC主分类号 G02B1/11(2006.01)I;G02B3/08(2006.01)I;C03C17/23(2006.01)I;C03C17/34(2006.01)I 专利有效期 菲涅尔透镜表面的减反增透涂层及其制备方法 至菲涅尔透镜表面的减反增透涂层及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明属于纳米材料制备技术领域,特别涉及菲涅尔透镜表面的减反增透涂层和菲涅尔透镜表面的超亲水自清洁的减反增透涂层,以及它们的制备方法。本发明将含有粒径大约为10~100nm的实心SiO2球形纳米粒子的乙醇悬浮液旋涂在经氧等离子体处理得到的菲涅尔透镜的纹面和光面,沉积后得到减反增透涂层。将含有粒径为30~100nm的介孔SiO2球形纳米粒子的乙醇悬浮液旋涂在带有所述的减反增透涂层的菲涅尔透镜的纹面和光面,沉积后得到超亲水自清洁的减反增透涂层。带有减反增透涂层的菲涅尔透镜的透光率能从94.3%提高到99.8%。带有超亲水自清洁的减反增透涂层的菲涅尔透镜的透光率能从94.3%提高到98.5%。

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