| 专利名称 | 去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法 | 申请号 | CN201310581418.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103567866A | 公开（授权）日 | 2014.02.12 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 王佳;范斌;万勇建;施春燕;卓彬;孟凯 | 主分类号 | B24B49/00(2012.01)I | IPC主分类号 | B24B49/00(2012.01)I | 专利有效期 | 去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法 至去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明为去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法，步骤S1：利用第j-1次和第j次抛光后光学元件面形数据的功率谱密度函数PSDj-1、PSDj，构建出平滑谱函数H模型即去除函数归一化后的傅里叶变换；步骤S2：将平滑谱函数H两端同时乘以得到关系式(2)：步骤S3：对关系式(2)进行m项求和相加运算，构建出第m次抛光工艺的误差抑制能力计算模型HModified；步骤S4：对n次抛光中的误差抑制能力计算模型进行取平均值计算，构建计算机控制表面成形抛光中去除函数在确定抛光条件下对不同频段误差抑制能力HTIF模型。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障