| 专利名称 | 测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法 | 申请号 | CN201310525910.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103558218A | 公开（授权）日 | 2014.02.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 李阁平;张利峰;李明远;王练;彭胜;吴松全;高博;顾恒飞;庞丽侠 | 主分类号 | G01N21/84(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/84(2006.01)I | 专利有效期 | 测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法 至测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 测定晶内第二相在基体中分布均匀性的方法，其步骤依次是：制备金相样品并进行金相观察；通过金相分析得到视场内每个第二相的几何中心坐标（X?Y），并将每一个坐标值保存到文本文件中；进行第二相均匀性测定：测定视场内所有第二相颗粒在二维平面内的平均最近邻、次最近邻的定义间距和对应标准偏差σt，并将平均最近邻、次最近邻的定义间距和对应标准偏差σt随试样位置变化绘成曲线图，通过曲线图直观反映第二相均匀性情况及随试样位置的变化。本发明把基体中第二相信息与数学方法相结合，其操作简单、结果准确可靠，适用于数目较多时的数据统计。其具有较大的经济价值和社会价值。 |
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