| 专利名称 | 一种大数值孔径的投影光学系统 | 申请号 | CN201310470645.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103499877A | 公开（授权）日 | 2014.01.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 邓超;邢廷文;廖志远;朱红伟;杨雄;白瑜 | 主分类号 | G02B17/08(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B17/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种大数值孔径的投影光学系统 至一种大数值孔径的投影光学系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种大数值孔径的投影光学系统，用于将物平面上的图案经过一定比例的缩放后投射到像平面上，所述的投影光学系统从物面到像面依次有五个镜组，其中，第一个镜组为平板玻璃，它充当系统的保护玻璃；第二个镜组为纯折射镜组，它的作用是将物平面上的图案投射到第一中间像平面上；第三个镜组包含了至少一个凹面反射镜，它的作用是将第一中间像平面上的图案投射到第二中间像平面上；第四镜组和第五镜组都为纯折射镜组，它们的作用是将第二中间像平面上的图案投射到像平面上。采用本发明的浸没式投影光学系统，除了可实现数值孔径大于1之外，能有效地降低制造成本，降低镜片的加工、检测和装调难度。 |
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