| 专利名称 | 一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法 | 申请号 | CN201310380360.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103488051A | 公开（授权）日 | 2014.01.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院高能物理研究所 | 发明（设计）人 | 伊福廷 | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/16(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法 至一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法，该方法采用金属丝网作为基片，并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上。利用本发明，采用金属丝网结构能够有效提供PMMA光刻胶与金属丝网从分相互包裹融合，使同步辐射光刻后的PMMA光刻胶柱子结构牢固地与金属丝网结合，不会发生倒塌和脱落，保证了PMMA光刻胶柱子结构具有非常大的高宽比，从而提高了LIGA技术的研究水平。 |
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