| 专利名称 | 一种光谱椭偏测量装置及方法 | 申请号 | CN201310436198.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103486974A | 公开（授权）日 | 2014.01.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 宗明成;黄有为;徐天伟;马向红 | 主分类号 | G01B11/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种光谱椭偏测量装置及方法 至一种光谱椭偏测量装置及方法 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种光谱椭偏测量装置及方法，属于光学测量技术领域，本发明包括：光源，用于为膜层的厚度变化量的测量提供测量光束；光谱偏振消光器，用于接收测量光束，并输出含有第一厚度变化量的第一偏振消光光束和第二厚度变化量的第二偏振消光光束；光谱消光探测器，用于接收第一偏振消光光束和第二偏振消光光束，并根据第一偏振消光光束和第二偏振消光光束来分别实现对膜层的第一厚度变化量和第二厚度变化量的测量；光学多路复用器，用于提供光源与光谱偏振消光器之间的光学多路复用、以及光谱偏振消光器与光谱消光探测器之间的光学多路复用。本发明通过采用光学多路复用技术，实现测量效率高、自动化水平高地测量多处位置的膜层厚度变化量。 |
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