| 专利名称 | 深紫外投影光刻机的照明装置及使用方法 | 申请号 | CN201310428685.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103472688A | 公开（授权）日 | 2013.12.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 张运波;曾爱军;王莹;黄惠杰 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 深紫外投影光刻机的照明装置及使用方法 至深紫外投影光刻机的照明装置及使用方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种深紫外投影光刻机的照明装置及使用方法：装置包括激光源，沿激光源输出光束方向依次是：扩束器、微反射镜阵列、光阑阵列、微透镜阵列、照明镜组和反射镜，所述的微反射镜阵列的控制系统包括计算机和微反射镜阵列控制器，计算机通过微反射镜阵列控制器控制微反射镜阵列上各个微反射镜单元进行二维转动，使扩束后光束经过微反射镜阵列在光阑阵列上形成光刻所需的强度模式，强度模式形成后，计算机通过微反射镜阵列控制器控制微反射镜阵列进行一维转动，使所形成的强度模式相对于光阑阵列移动，完成光刻扫描过程。本发明大大简化了结构，提高了系统的稳定性和光能利用率。 |
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