| 专利名称 | 光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置 | 申请号 | CN201310441881.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103472559A | 公开（授权）日 | 2013.12.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 彭海峰;巩岩;倪明阳;赵磊;秦硕 | 主分类号 | G02B7/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B7/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置 至光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置，涉及深紫外投影光刻物镜结构设计与装调技术领域，为解决现有光学元件轴向调整装置存在的调整行程小，存在倾斜误差的问题，该装置包括电容传感器、镜框、宏微调节机构和导向导轨，电容传感器设置在镜框的上方，用于检测镜框的移动距离；宏微调节机构设置在镜框的边框下面，用于对镜框的宏微动调节；导向导轨设置在镜框的边框外侧，用于限制镜框的移动；所述镜框包括周向均布的三个凸台及三个导向凸台；电容传感器设置凸台上方，宏微调节机构作用在凸台上，导向凸台与导向导轨配合；该装置能在保证调整精度的同时，实现大行程调节；同时，驱动结构作用在镜框上，降低了调整力对光学元件面型的破坏。 |
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