| 专利名称 | 增强照明数值孔径超分辨光刻成像设备及光刻成像方法 | 申请号 | CN201310439950.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103472689A | 公开（授权）日 | 2013.12.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;王长涛;赵泽宇;王彦钦;胡承刚;蒲明薄;李雄;黄成;何家玉;罗云飞 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 增强照明数值孔径超分辨光刻成像设备及光刻成像方法 至增强照明数值孔径超分辨光刻成像设备及光刻成像方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 提供了增强照明数值孔径超分辨光刻成像设备及光刻成像方法。一示例光刻成像设备可以包括照明光束产生装置，配置为产生照明光束，该照明光束具有数值孔径NA>0的照明场。照明光束可以通过掩模和成像层，将掩模图形成像在感光层空间。 |
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