| 专利名称 | 一种磁流变高精度定位装置及磁流变去除函数转换方法 | 申请号 | CN201310377414.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103447891A | 公开（授权）日 | 2013.12.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 钟显云;万勇建;施春燕;杨金山;陈辉 | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I;B24B41/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种磁流变高精度定位装置及磁流变去除函数转换方法 至一种磁流变高精度定位装置及磁流变去除函数转换方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种磁流变高精度定位装置及磁流变去除函数转换方法，包括：固定支撑机构、外圆定位机构、端面定位机构；方法步骤：选取常规加工的光学元件基片进行单点去除效率测量并建立去除效率对比系数库，采用微晶材料进行四点去除效率测量并转换为待加工元件的去除效率，通过手轮、螺杆调节外圆定位架、端面定位架及滑块的位置，放置工件，将转换后的待加工工件去除效率对工件表面误差进行仿真计算，拟合生产机床代码进行数控加工。本发明集成度高、定位精度准等优势；同时具有提高去除函数准确度、缩短测量时间、提高加工效率、降低加工耗材成本等优势。本发明可应用于平面及高陡度球面、非球面以及自由曲面光学元件的快速加工。 |
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