| 专利名称 | 一种氧化钙团块高活性与高强度耦合调控方法 | 申请号 | CN201310342242.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103408051A | 公开（授权）日 | 2013.11.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院过程工程研究所 | 发明（设计）人 | 曹建尉;杨航;王志;公旭中 | 主分类号 | C01F11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | C01F11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种氧化钙团块高活性与高强度耦合调控方法 至一种氧化钙团块高活性与高强度耦合调控方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种氧化钙团块高活性与高强度耦合调控方法，首先通过改变影响氧化钙团块活性的影响因素：增强剂量、等静压压力、保压时间、等温烧结温度及保温时间对活性进行调控；然后改变影响氧化钙团块强度的影响因素：增强剂量、轴向加压压力、保压时间、高径比、非等温烧结温度、保温时间、升温速率及随炉冷却速率对强度进行调控；其次从活性与强度两方面进行耦合调控，改变可以同时提高活性和强度的影响因素:增强剂量、轴向压保压时间、等温烧结温度、保温时间；最后进行优化活性和强度；本发明在有效解决了团块氧化钙既具有高活性又具有高强度的技术难题同时高效消纳处理了电石渣，具有较高的环境效益和经济效益。 |
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