| 专利名称 | 步进扫描投影光刻机的照明系统 | 申请号 | CN201310270245.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103412465A | 公开（授权）日 | 2013.11.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 曾爱军;陈立群;方瑞芳;黄惠杰 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 步进扫描投影光刻机的照明系统 至步进扫描投影光刻机的照明系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种步进扫描投影光刻机的照明系统，沿光束传播方向，其构成包括光源、光瞳整形单元、视场定义单元、第一透镜阵列、第一狭缝阵列、第二透镜阵列、第三透镜阵列、第二狭缝阵列、第四透镜阵列、聚光镜和扫描驱动单元。本发明降低了透镜加工、狭缝扫描速度和狭缝扫描精度的要求，更容易实现。 |
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