| 专利名称 | 一种利用双光谱成像进行雾场粒径平面分布测量的装置 | 申请号 | CN201310337431.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103398925A | 公开（授权）日 | 2013.11.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 刘维来;张钟秀;王克逸;王声波 | 主分类号 | G01N15/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N15/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种利用双光谱成像进行雾场粒径平面分布测量的装置 至一种利用双光谱成像进行雾场粒径平面分布测量的装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提出一种利用双光谱成像进行雾场粒径平面分布测量的装置，该装置以激光片激发雾场的一个面（下文称之为激发面），激发面的液滴中含有受激光激发而产生荧光的物质。对激发面的微液滴群受激光片激发产生的Mie散射光和荧光散射光分别成像，综合利用这两幅图像信息，计算出激发面的SMD(Sault?Mean?Diameter，索特平均粒径)粒径分布数据。本发明提出的测量装置，相对于PDA技术，具有更高的测量效率和更高的空间分辨率，它可以将PDA的单点测量功能拓展至二维平面测量功能，且本发明利用一个相机，同时拍得两种不同光谱（Mie散射光谱和荧光光谱）图像，这与两个相机分别拍摄两种不同光谱图像方案相比，结构更简单，成本降低，时序控制也更简单可靠。 |
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