| 专利名称 | 光栅刻划刀调整装置及其方法 | 申请号 | CN201310353770.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103399585A | 公开（授权）日 | 2013.11.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 唐玉国;于海利;李晓天;杨超;齐向东;巴音贺希格 | 主分类号 | G05D3/12(2006.01)I | IPC主分类号 | G05D3/12(2006.01)I;B26D5/06(2006.01)I | 专利有效期 | 光栅刻划刀调整装置及其方法 至光栅刻划刀调整装置及其方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 光栅刻划刀调整装置及其方法属于光栅刻划机械自动控制领域，目的在于实现高精度、高性能光栅的刻制。本发明的压电陶瓷设于承载座上，刀架定位安装头与压电陶瓷的输出端连接，刀架位于刀架定位安装头的下方，测量装置固定于承载座，n个封闭力机构设于承载座和刀架定位安装头之间，抬落刀机构安装在刀架定位安装头上，实现刀架的抬起和落下；压电陶瓷和测量装置与数据采集控制模块连接，数据采集控制模块控制压电陶瓷驱动刀架定位安装头产生位移量，调节刀架的运行误差。本发明压电陶瓷执行微定位时的负载质量较轻，提高了动态调节带宽和动态精度，降低了金刚石刻刀相对光栅基底间的误差，实现高精度、高性能光栅的刻制。 |
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