| 专利名称 | 投影光刻机照明装置和使用方法 | 申请号 | CN201310307405.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103399463A | 公开（授权）日 | 2013.11.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 曾爱军;张运波;陈明星;王莹;黄惠杰 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 投影光刻机照明装置和使用方法 至投影光刻机照明装置和使用方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种投影光刻机的照明装置及使用方法，包括激光源，沿激光源输出光束方向依次是：扩束器、微镜阵列、快速反射镜、光阑阵列、微透镜阵列、照明镜组和反射镜，所述的微镜阵列的控制系统包括第一计算机和微镜阵列控制器，所述的快速反射镜的控制系统包括第二计算机和快速反射镜控制器，第一计算机通过微镜阵列控制器控制微镜阵列上各个微镜单元进行二维转动，使扩束后光束经过微镜阵列、快速反射镜反射后在光阑阵列上形成光刻所需的强度模式，第二计算机通过快速反射镜控制器控制快速反射镜的反射镜部分转动，使所形成的强度模式相对于光阑阵列移动。本发明大大简化了结构，提高了系统的稳定性和光能利用率。 |
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