| 专利名称 | 一种化学镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法 | 申请号 | CN201310275419.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103388137A | 公开（授权）日 | 2013.11.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 于志明;胡家秀;赵健;牛云松 | 主分类号 | C23C18/36(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C18/36(2006.01)I | 专利有效期 | 一种化学镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法 至一种化学镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及叠层膜的制备技术，具体为一种具有优良耐磨、耐腐蚀性能并且可抑制裂纹产生和扩展的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜及其制备方法。本发明采用化学镀工艺并间歇式周期性导入超声波的技术，制备Ni-P纳米叠层镀膜，其制备方法：经过除油、净化处理的金属基底材料，进行化学镀Ni-P纳米叠层镀膜，当Ni-P纳米叠层镀膜达到所需要的厚度时，取出清洗干净并进行干燥后，即可得到制好的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜，其单层厚度在50-500纳米，总厚度在4-50微米范围内根据实际需求可以进行调整。 |
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