| 专利名称 | 离子注入机 | 申请号 | CN201110391312.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103137447A | 公开（授权）日 | 2013.06.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 王蒙;李勇滔;赵章琰;李超波;夏洋 | 主分类号 | H01L21/265(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/265(2006.01)I | 专利有效期 | 离子注入机 至离子注入机 | 法律状态 | 公开 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种离子注入机，包括电源系统、反应腔室、预抽腔室、真空控制系统、送片系统及送气系统。所述真空控制系统分别与所述反应腔室、所述预抽腔室连接；所述反应腔室与所述预抽腔室连接；所述送片系统用于将硅片从所述预抽腔室运输至所述反应腔室，并将硅片运输至所述反应腔室内的离子反应位置；所述送气系统用于向所述反应腔室通入反应与吹扫气体。本发明舍弃了原有离子注入机的注入方式，去除了质量分析、离子束聚焦与扫描系统等复杂的结构，提供了一种结构简单可用于大面积注入的离子注入机。 |
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