| 专利名称 | 一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法 | 申请号 | CN201110396196.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103132006A | 公开（授权）日 | 2013.06.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 邵花;王文东;刘邦武;夏洋;李勇滔 | 主分类号 | C23C4/12(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C4/12(2006.01)I;C23C4/10(2006.01)I | 专利有效期 | 一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法 至一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法 | 法律状态 | 公开 | 说明书摘要 | 本发明涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域，具体涉及一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法。所述方法，包括如下步骤：步骤(1)，选择纯度大于99.95％的Y2O3粉末；步骤(2)，对待喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出Y2O3涂层；步骤(4)，将步骤(4)中制备出的Y2O3涂层进行等离子体氢处理，即可得到黑色的Y2O3涂层。本发明利用等离子体氢还原法制备的黑色Y2O3涂层，具有耐刻蚀、耐脏的性能，且成本较低。 |
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