| 专利名称 | 产生投影光刻照明模式的装置 | 申请号 | CN201310037656.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103135363A | 公开（授权）日 | 2013.06.05 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 张运波;曾爱军;陈明星;陈立群;王莹;黄惠杰 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B26/08(2006.01)I;G02B27/28(2006.01)I | 专利有效期 | 产生投影光刻照明模式的装置 至产生投影光刻照明模式的装置 | 法律状态 | 公开 | 说明书摘要 | 一种用于高数值孔径投影光刻系统的产生投影光刻照明模式的装置，其构成包括激光源，沿该激光源激光输出方向依次是扩束器、起偏器、第一四分之一波片、相位延迟器阵列、第二四分之一波片、微镜阵列、傅里叶透镜，所述的相位延迟器阵列的相位延迟单元的相位延迟由相位延迟控制器控制，所述微镜阵列的微镜转动由微镜转动控制器控制。本发明可以获得光刻机需要的强度模式和偏振模式的照明，而且具有结构较简单，操控方便的特点。 |
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