| 专利名称 | 大型浸没式环抛机 | 申请号 | CN201310293836.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103372805A | 公开（授权）日 | 2013.10.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 顿爱欢;顾建勋;陈国凯;吴福林;张宝安;徐学科 | 主分类号 | B24B29/02(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B29/02(2006.01)I | 专利有效期 | 大型浸没式环抛机 至大型浸没式环抛机 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种大型浸没式环抛机，主要包括大理石抛光盘和抛光胶盘、大型储液槽、抛光液储液罐、磁力搅拌器、电泵、抛光液过滤设备、喷嘴装置等，抛光液储液罐中有磁力搅拌器持续搅拌，抛光液过滤设备采用多层过滤膜式过滤装置，可以根据需要多层分级过滤。本发明实现了大型环抛机的浸没式抛光加工，温度平衡性好，降低了由于抛光温度不均匀性带来的抛光面形误差，有利于提高大口径平面光学元件的面形精度和表面粗糙度，并能够有效的控制工件的表面疵病。另外，该浸没式抛光机采用抛光液循环利用方式，可以大大降低抛光液的损耗，减小了加工成本。 |
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