微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用

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专利名称 微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用 申请号 CN201210122279.1 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103372469A 公开(授权)日 2013.10.30 申请(专利权)人 中国科学院化学研究所 发明(设计)人 齐莉;杨俊;马会民 主分类号 B01L3/00(2006.01)I IPC主分类号 B01L3/00(2006.01)I;G01N33/48(2006.01)I;G01N21/78(2006.01)I 专利有效期 微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用 至微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用。该方法,包括如下步骤:1)以微孔薄膜为载体,将其浸润光刻胶、静置、烘干后得到光刻胶薄膜;2)将掩膜覆盖在步骤1)所得光刻胶薄膜上进行曝光,曝光完毕溶解所述光刻胶,得到微流控芯片通道,再进行等离子处理后,得到所述微孔薄膜微流控芯片。该方法的芯片制作过程简单快捷,材料的选取新颖独特,成本低,来源广泛,可用于大批量生产。所有操作步骤在常规实验室均可完成,适用性强,芯片制作过程采用了稀碱溶液等常规试剂,避免了腐蚀性试剂的使用,环境相容性好。

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