| 专利名称 | 光刻机照明系统偏振测量用光学系统 | 申请号 | CN201310301241.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103364927A | 公开（授权）日 | 2013.10.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 蔡燕民;王向朝 | 主分类号 | G02B13/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B13/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G01J4/00(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻机照明系统偏振测量用光学系统 至光刻机照明系统偏振测量用光学系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机照明系统偏振测量用光学系统，沿其光轴方向依次包括：孔径光阑、成像物镜、波片、检偏器、中继物镜、像传感器，本发明能满足像传感器尺寸和大视场角、后工作距较长、波片和检偏器的位置与尺寸的要求，结构紧凑，并且球差、象散、场曲、畸变、波像差都得到很好的校正。 |
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