| 专利名称 | TE偏振垂直入射-1级高效率倾斜透射石英光栅 | 申请号 | CN201310285669.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103364856A | 公开（授权）日 | 2013.10.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 李树斌;周常河;曹红超;吴俊;孙文婷;朱锋 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | TE偏振垂直入射-1级高效率倾斜透射石英光栅 至TE偏振垂直入射-1级高效率倾斜透射石英光栅 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于1550纳米波长的TE偏振垂直入射-1级高效率倾斜透射石英光栅，其特征在于光栅的光栅周期为1460～1480纳米，占空比为0.328，倾斜角33～35度，光栅深度为1060～1065纳米。当TE偏振光垂直入射时，其透射光-1级衍射效率可高于90%。本发明TE偏振垂直入射-1级高效率倾斜透射石英光栅由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，取材方便，造价小，能大批量生产，具有重要的实用前景。 |
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