| 专利名称 | 用于抑制光学表面中高频误差的离子束牺牲层加工方法 | 申请号 | CN201310275909.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103342476A | 公开（授权）日 | 2013.10.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 施春燕;张亮;舒良轩;徐清兰 | 主分类号 | C03C23/00(2006.01)I | IPC主分类号 | C03C23/00(2006.01)I | 专利有效期 | 用于抑制光学表面中高频误差的离子束牺牲层加工方法 至用于抑制光学表面中高频误差的离子束牺牲层加工方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明用于抑制光学表面中高频误差的离子束牺牲层加工方法，S1检测有中高频误差的光学元件表面初始面形数据；S2根据光学元件面形误差值和误差分布计算所需牺牲层的厚度及胶的浓度；S3对光学元件的表面甩胶、烘干；S4检测含有胶层的光学元件表面面形，获得胶层低频误差；S5检测含有甩厚胶层光学平面基底的面形分布构建胶层去除函数；S6利用离子束抛光去除胶层低频误差，使得胶层平滑覆盖光学元件表面的中高频误差，获得胶层平滑覆盖高频误差的光学元件；S7检测胶层平滑覆盖高频误差的光学元件的面形；S8判断光学元件表面胶层的低频误差是否被去除；S9根据胶层去除函数和胶层厚度、加工时间，对光学元件表面遍历扫描并去除胶层。 |
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