| 专利名称 | Si衬底的四结级联太阳能电池及其制备方法 | 申请号 | CN201310219216.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103346190A | 公开（授权）日 | 2013.10.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 赵勇明;董建荣;李奎龙;孙玉润;曾徐路;于淑珍;赵春雨;杨辉 | 主分类号 | H01L31/0687(2012.01)I | IPC主分类号 | H01L31/0687(2012.01)I;H01L31/0693(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 专利有效期 | Si衬底的四结级联太阳能电池及其制备方法 至Si衬底的四结级联太阳能电池及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及半导体技术领域，尤其是指一种四结级联太阳能电池，包括从下至上依次设置在Si衬底上的第一键合层、InGaAsP/InGaAs双结电池、第二键合层、第三键合层、GaInP/GaAs双结电池，使所述InGaAsP/InGaAs双结电池、GaInP/GaAs双结电池在Si衬底上形成串联。本发明还提供这种太阳能电池的制备方法。本发明采用Si衬底作为支撑衬底具有良好的机械强度。同时，采用了键合后再正装生长薄层的双结电池的方式，且GaAs与InP薄层键合方法实现了四结电池的晶格匹配生长，相比晶格失配生长，材料的晶体质量有所保证。 |
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