| 专利名称 | 一种光刻机中照明全系统及各组件透过率的测量方法 | 申请号 | CN201310279661.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103345129A | 公开（授权）日 | 2013.10.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 邢莎莎;廖志杰;林妩媚 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种光刻机中照明全系统及各组件透过率的测量方法 至一种光刻机中照明全系统及各组件透过率的测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻机中照明全系统及各组件透过率测量方法，测量装置包括光源，能量衰减装置，光路分离元件，待测光学元件，光束接收与探测单元，数据处理和控制系统。实现步骤：用分光镜将准分子激光光源的光束分为测试光路和参考光路；用示波器记录多组测试光路和参考光路的光电探测器输出电压数据，采用分别将相邻两次测量结果进行数据处理，最后将整组数据求和平均的方法求出待测光学组件的透过率。采用本发明方法测量光刻机中照明全系统及各组件的透过率，具有较高的测量精度和测量多功能性。 |
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