| 专利名称 | 一种新型聚噻吩分散体系及其制备方法和应用 | 申请号 | CN201310185099.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103304783A | 公开（授权）日 | 2013.09.18 | 申请（专利权）人 | 中科院广州化学有限公司 | 发明（设计）人 | 陈鸣才;张友雄;许凯;于志伟;彭军 | 主分类号 | C08G61/12(2006.01)I | IPC主分类号 | C08G61/12(2006.01)I;C08L65/00(2006.01)I;C08K3/16(2006.01)I | 专利有效期 | 一种新型聚噻吩分散体系及其制备方法和应用 至一种新型聚噻吩分散体系及其制备方法和应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种新型聚噻吩分散体系及其制备方法和应用，属于化工材料领域。本发明涉所述的新型聚噻吩分散体系，是由0.01～1.00质量份3,4-乙烯二氧噻吩；0.04～14.00质量份主链共轭型聚电解质；0.03～3.30质量份氧化剂；40～400质量份溶剂组成，3,4-乙烯二氧噻吩单体在水溶性主链共轭型聚电解质的水溶液中原位氧化聚合形成蓝黑色油墨状的分散体系。通过溶剂的缓慢挥发直接形成致密的薄膜，该膜噻吩分子沿着聚电解质分子链平行排列堆积，形成高度取向的晶态结构，导电率和稳定性明显提高。这种薄膜在聚合物光伏电池、有机发光二极管及超级电容器等有机电子器件领域具有重要的应用前景。 |
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