| 专利名称 | 线性双折射测量装置和测量方法 | 申请号 | CN201310250980.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103308175A | 公开（授权）日 | 2013.09.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 曾爱军;刘龙海;邓柏寒;朱玲琳;黄惠杰 | 主分类号 | G01J4/04(2006.01)I | IPC主分类号 | G01J4/04(2006.01)I | 专利有效期 | 线性双折射测量装置和测量方法 至线性双折射测量装置和测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种线性双折射测量装置与方法，该装置包括光源模块和测量模块，光源模块由准直光源、起偏器、光弹调制器、光弹控制器和一维光栅组成，测量模块由两个检偏器、两个光电探测器、两个锁相放大器和计算机组成。本发明光源模块和测量模块位于待测双折射样品的同一端，可以通过单端扫描测量双折射样品的相位延迟量分布和快轴方位角分布，同时测量光束两次通过双折射样品，测量精度提高一倍。 |
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